產品概述：主要采用RO工藝，對原水進行深度凈化，電導率通常在10-20uS/cm以下。國家對食品飲料行業實施QS認證，所用工藝水及成品水均需要用凈化水（純水）。
水質：<10-20us/cm
工藝流程：砂濾+炭濾+RO;砂濾+炭濾+軟化+RO;砂濾+炭濾+阻垢系統+RO
產品概述：采用反滲透原理的深度水處理技術,產水量0.5T/H,對水中的細菌、病毒、雜質、重金屬離子、無機鹽均有很好的凈化效果，直接將市政自來水處理成高質量的直飲水。
產品概述：主要采用RO+EDI工藝，配置殺菌消毒系統，在設計、制造、調試過程中遵循模塊化設計，嚴格把控每個功能單元產水水質，出水滿足客戶的生產用水要求，達到超過相關行業、藥典水質標準要求。
水質：<2us/cm
產品概述：超純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。半導體、集成電路芯片、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、電子器件、微電子、集成電路需用大量的純水、超純水清洗半成品、成品。設備一般核心工藝為雙極RO+EDI等構成。
產品概述：電力行業對水質純度要求非常高，需要采用超純水設備生產出化學純度極高的水，才能滿足電力行業的用水需求。設備采用預處理、雙級RO反滲透、EDI系統等構成，可連續制水，回收利用率高。
產品概述：采用五級深度精濾工藝，反滲透核心技術，過濾精度達0.00001微米，產水量大，抗污染強，出水直飲。整體采用一體化設計，含恒壓供水系統、無菌純水箱。
水質：<10us/cm
2022-10
用途不同：超純水設備的用途：1、超純材料和超純試劑的生產和清洗。2、電子產品的生產和清洗。3、電池產品的生產。4、半導體產品的生產和清洗。5、電路板的生產和清洗。6、其他高科技精細產品的生產。純水設備的用途：1、電廠化學水處理2、電子、半導體、精密機械行業超純水3、食品、飲料、飲用水的制備4、小型純水站，團體
1、拆卸舊膜后沖洗干凈膜殼內部，然后按照設計方向安裝新膜。2、石英砂、椰殼活性碳等預處理罐需沖洗干凈。3、檢查系統管道閥門開閉狀態，濃水排放閥需全開。4、低壓沖洗：檢驗反滲透管道系統是否有漏水電，沖洗掉系統內殘留的物質以及充分濕潤膜元件從而避免壓力失衡造成的損壞。5、開機制水：將產水、廢水流量和回收率調至
GMP對用水制備裝置的要求1、結構設計應簡單、可靠、拆裝簡便。2、為便于拆裝、更換、清洗零件，執行機構的設計盡量采用的標準化、通用化、系統化零部件。3、設備內外壁表面，要求光滑平整、容易清洗。零件表面應做鍍鉻等表面處理，以耐腐蝕，防止生銹。設備外面避免用油漆，以防剝落。4、制備純化水設備應
2022-09
在工業生產中很多行業都要用到純水、超純水等去離子水對產品進行清洗或是以純水作為原材料使用；制作去離子水所使用到的反滲透凈水設備，其工作原理為高于溶液滲透壓的作用下，根據其他的物質是不能夠透過半透膜的，從而將這些物質和水分離出來。由于反滲透膜的膜孔徑非常細小，因此能夠過濾掉水中的無機鹽、細菌、微生物、
系統脫鹽率是反滲透系統對鹽的整體脫除率，它受到溫度、離子種類、回收率、膜種類以及其他各種設計因素的影響，因而不同的反滲透系統的系統脫鹽率是不一樣的，其計算公式為： (總的給水含鹽量-總的產水含鹽量)系統脫鹽率 X 100% =總的給水含鹽量 有時出
TDS是“Total dissolved solids”的縮寫，翻譯成中文是：“溶解性固體總量”。簡單直白地講：“能夠溶解在水里的各種固體物質的總量”。TDS測量單位為毫克/升(mg/L)，它表明1升水中含有多少毫克溶解性固體，包括可溶解性鹽類（鈣離子、鎂離子等）、離子型有機物（醋酸銨、硫酸鈉等）、部分重金屬離子（鉻、鋅、鉛、銅等）。
多介質過濾器是利用一種或幾種過濾介質，在一定的壓力下把濁度較高的水通過一定厚度的粒狀或非粒材料，從而有效的除去懸浮雜質使水澄清的過程，常用的濾料有石英砂，無煙煤，錳砂等，主要用于水處理除濁，軟化水，純水的前級預處理等。過濾的含義，在水處理過程中，過濾一般是指以石英砂、無煙煤等濾料層截留水中懸浮雜質，
在雙級RO反滲透純水設備系統中,第二級RO的進水都要加堿,這是由于原水進水含有CO2,在水解作用下，以氫離子及碳酸根離子存在，膜對碳酸根離子的去除率更高，所以產水的PH值降低，所以RO產水pH值一般都比進水低,當進水堿度及HCO3-含量高時,其pH下降更大.當pH小于8時,水中HCO3-、CO32-開始轉為CO2,當pH小于4時,水中HCO3-
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